上海麻将连连看

氣相沉積

氣相沉積技術按照成膜機理可分為化學氣相沉積、物理氣相沉積和等離子體氣相沉積。氣相沉積欄目主要講述了化學氣相沉積技術和工藝,物理氣相沉積原理等氣相沉積技術。

MPCVD法制備石墨烯的研究進展

文章首先通過分析比較得出了制備石墨烯的幾種主要方法的優缺點,重點強調了微波等離子體化學氣相沉積(MPCVD)法制備石墨烯的優勢。

晶界“背脊”形貌對熱障涂層熱沖擊壽命的影響
本文的主要研究工作是采用化學氣相沉積和電子束物理氣相沉積技術在鎳基單晶高溫合金上分別制備鉑改性鋁化物涂層和陶瓷熱障涂層,開展粘結層表面晶界“背脊”形貌對熱障涂層體系熱沖擊壽命的影響行為和可能的TBCs 剝落失效機理研究。
PVD鍍膜能夠鍍出的膜層的顏色種類
PVD鍍膜目前能夠做出的膜層的顏色有深金黃色,淺金黃色,咖啡色,古銅色,灰色,黑色,灰黑色,七彩色等。
化學氣相沉積/原子層沉積銅前驅體的研究進展
本文介紹了利用化學氣相沉積技術與原子層沉積技術沉積銅薄膜工藝的研究;概述了應用所述前驅體進行銅薄膜沉積的參數及所制備銅薄膜的導電性能。
靶基距和錠料蒸發速率對沉積薄板厚度均勻性的影響
本工作根據真空蒸鍍中小面源具有方向性的發射特性,即余弦角度分布規律,同時結合EBPVD自身發射特點,建立了一個多錠料蒸發理論模型,討論了靶基距和不同坩堝蒸發速率對厚度均勻性和有效蒸發效率的影響,并對實際沉積薄板厚度分布進行了預測。
不同頻率濺射沉積的新型耐磨二硼化釩涂層的結構及性能
本文的主要目的就是選擇幾種不同頻率的電源制備VB2涂層,測試及比較不同頻率下制備出的新型VB2涂層的結構和性能。
CVD直接生長技術高效碳納米管鎳氫電池的研究
采用熱化學氣相沉積技術(CVD),在泡沫鎳表面直接生長多壁碳納米管(MWNT),以此MWNT-泡沫鎳基底為電池集流體,并使用該基底、通過干粉末滾壓工藝制備鎳氫電池電極,對電池進行了一系列的充放電性能測試。
MPCVD法合成單晶金剛石的研究及應用進展
本文簡介近年來MPCVD技術合成單晶金剛石的研究進展,評述了在該研究領域處于領先地位的英美日等國有關公司及研究機構所取得的成果,并對單晶金剛石的應用前景作出了展望。
基于數字模擬的PECVD沉積氮化硅薄膜的工藝參數決策方法研究
本文提出了基于數字模擬的PECVD沉積氮化硅薄膜的工藝參數決策方法,綜合了單因素試驗和數字模擬的正交試驗設計兩種優化方法。
大批量微細刀具HFCVD涂層制備的溫度場仿真與試驗分析
本文以HFCVD沉積大批量微細刀具金剛石涂層系統為研究對象,利用有限容積法的仿真方法,對影響基體溫度場的多個工藝參數進行仿真與分析,并提出優化設計的方案。
固態碳源溫度對法CVD生長石墨烯薄膜影響的研究
本文主要探索了固態源溫度變化對石墨烯生長的影響,并采用固態源動態變溫的方法生長了石墨烯,有效提高了所得石墨烯薄膜的覆蓋率。
MPCVD法制備低粒徑納米金剛石薄膜的研究
采用MPCVD法,以Ar/H2/CH4為氣源,探索較高濃度氬氣和氣壓條件下低粒徑納米金剛石的制備工藝,并對生長的納米金剛石膜的晶粒尺寸,薄膜質量,殘余應力,表面形貌進行分析。
微波等離子體化學氣相沉積超納米晶金剛石膜研究
超納米晶金剛石(UNCD)在短毫米波特別是太赫茲真空器件輸能窗中具有潛在的應用價值。本文介紹了UNCD膜的制備工藝和性能表征。
MPCVD工藝參數對石墨烯性能影響的研究
實驗采用MPCVD裝置,以氫氣和甲烷為主要氣源,氮氣和氬氣為輔助氣源在鎳片上生長石墨烯薄膜,并對不同條件下制備樣品進行拉曼光譜儀表征。
微波等離子體化學氣相沉積(MPCVD)法在碳纖維上制備碳納米管
利用微波等離子體化學氣相沉積(MPCVD)法在碳纖維上制備了碳納米管,并在此基礎上系統地研究了微波功率、反應時間、催化劑前驅體的吸附時間以及吸附濃度對碳納米管生長的影響。
上海麻将连连看 北京pk十开奖历史记录 四川时时诈骗案例 立博 助赢计划软件准不准 快3免费计划软件下载 火柴计划官网 吉林快三计划软件苹果 pk106码计算钱公式 线上真人斗牛 欧泊彩票是真的吗