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真空鍍膜

真空鍍膜主要分蒸發鍍膜、濺射鍍膜、離子鍍膜和化學氣相沉積幾種。真空鍍膜欄目主要講述了真空鍍膜原理,真空鍍膜工藝,真空鍍膜設備等有關真空鍍膜技術。

磁控濺射鐵磁性靶材的主要方法
由于磁控濺射鐵磁性靶材的難點是靶材表面的磁場達不到正常磁控濺射時要求的磁場強度,因此解決的思路是增加鐵磁性靶材表面剩磁的強度。
合金膜的濺射沉積方法
為使濺射系統所用靶的數量減少,盡量用一個靶就能濺射沉積制取符合成分及性能要求的合金薄膜,可以采用合金靶、復合鑲嵌靶、以及采用多靶濺射等。
非對稱脈沖磁控濺射的工作原理
脈沖磁控濺射一般使用矩形波電壓,由于所用的脈沖波形是非對稱性的,因此得名為非對稱脈沖磁控濺射。
磁控濺射光學膜均勻性改進
隨著光通訊的發展,對光學薄膜的性能要求越來越高,這對鍍膜機的均勻性提出更高要求。本文通過直接對鍍膜機的夾具進行改進來改善均勻性。
反應磁控濺射的機理與特性
采用PVD方法制備介質薄膜和化合物薄膜,除了可采用射頻濺射法外,還可以采用反應濺射法。即在濺射鍍膜過程中,人為控制地引入某些活性反應氣體,與濺射出來的靶材物質進行反應沉積在基片上,可獲得不同于靶材物質的薄膜。
中頻脈沖非平衡磁控濺射技術制備類金剛石膜的結構與性能
本文采用中頻脈沖磁控濺射技術制備了類金剛石薄膜,研究了沉積氣壓對薄膜厚度、化學鍵結構、機械性能和光學性能的影響。
電弧離子鍍TiN/Ti納米多層膜的力學性能
本文在TiN涂層和多層結構的基礎上,采用多弧離子鍍方法制備TiN/Ti 多層膜,分析研究調制周期對其結構及其性能的影響。
(TiZr)N硬質膜的沉積工藝研究
本文主要研究(TiZr)N硬質膜的沉積工藝波動范圍及影響。考察了陰極靶電流、N2氣流量等工藝參數對膜層組織和性能的影響。
真空卷繞鍍膜技術研究進展
本文從系統結構、參數控制和鍍膜方式等綜述了真空卷繞鍍膜技術研究進展。
桿狀氧化鈹表面金剛石薄膜的生長
本文利用一種新型線形微波等離子源以CH4和H2為反應氣體在桿狀氧化鈹陶瓷表面進行金剛石膜沉積,研究了基底預處理對金剛石形核密度和膜的連續性,以及基底溫度對金剛石膜表面形貌和質量的影響。
硬質涂層抗熱震性的研究方法與評價
本文對硬質涂層的熱震性做詳細的分析探討,并通過分析熱震損傷機制及表征方法,尋求提高硬質涂層抗熱震性的途徑和方法。
磁控濺射中電磁場分布二維模擬
本文采用計算機FORTRAN語言自主編程,通過建立通電線圈磁場的數學模型,對磁控濺射靶附近由通電線圈產生的磁場分布進行了二維數值模擬計算。
三種聚合物薄膜氦滲透率的測試
本文利用氦質譜檢漏儀測量聚合物薄膜對He的整體漏率,根據菲克定律計算出聚合物薄膜對He的滲透率,并比較分析三種常用聚合物(PET,PDMS,PI)對He滲透率的大小。
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